版图专利的优势:
高新企业申请时, 企业所持有的专利是最为重要的考虑因素. 目前国家对于知识产权的分类分为两种,Ⅰ 类和 Ⅱ 类.
Ⅰ 类包括发明专利 (含国防专利), 植物新品种, 国家级农作物品种, 国家新药, 国家一级中药保护品种, 集成电路布图设计专有权;
Ⅱ 类包括实用新型专利, 外观设计专利 (非简单改变产品图案和形状的外观设计), 软件著作权 (按 Ⅱ 类评价的知识产权在申请高新技术企业时, 仅限使用一次.)
对于芯片设计企业来说, 只要项目完成, 就会有版图, 版图是项目的最终结果. 有鉴于此, 版图是所有芯片企业最直接的申请专利的方式, 有产品就有版图.
风险
目前版图专利与发明专利享受同等待遇, 不过考虑到有一定的泄密风险, 企业需要谨慎评估. 鉴于现在版图拍照技术如此发达, 如果竞争对手真的有意于了解版图, 而且产品已经上市, 那么也不是太难的事情.
申请范例
将设计好的芯片版图或者 IP 版图, 按照每一层进行分层归档, 需要注意的是, 对每一层有一个描述, 以便审批人了解每一层的作用.
以下是一个版图专利的范例, 仅供参考.
来源: http://www.bubuko.com/infodetail-3506480.html